A フィルムフォトマスクウェハ、ガラス、または PCB 基板に画像を転写するために使用される高密度パターンを含む写真フィルムです。これにより、意図した微細構造が鮮明で一貫性があり、再現性が保たれることが保証されます。光がフォトマスクを通過すると、露光されたパターンがその下のフォトレジスト層に正確に複製され、高精度の量産が可能になります。
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