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フォトマスクは単にマスクとも呼ばれ、集積回路 (IC) または「チップ」の製造に不可欠なツールです。規定のパターンで光を透過できる透明領域を備えたこれらの不透明プレートは、半導体製造の重要なステップの 1 つであるフォトリソグラフィー プロセスで重要な役割を果たします。この記事では、IC の製造においてフォトマスクがどのように使用されるかを見ていきます。

半導体製造の世界では、フォトマスクとレチクルは集積回路 (IC) の製造において重要な役割を果たします。これらの用語はしばしば同じ意味で使用されますが、実際には特定の機能を持つ別個のコンポーネントを指します。フォトマスクとレチクルの違いを理解することは、マイクロエレクトロニクス産業に携わるすべての人にとって不可欠です。

コンピュータ生成ホログラム (CGH) は、従来のホログラフィック記録材料を必要とせずに 3 次元画像のデジタル作成と表示を可能にし、ホログラフィーの分野に革命をもたらしました。これらのホログラムは、計算アルゴリズムを活用して、実際の物体によって作成される干渉パターンをシミュレートし、さまざまな技術を使用して表示できるホログラフィック画像の生成を可能にします。この記事では、CGH の重要なクラスを代表するフーリエベースのホログラムに焦点を当てて、コンピューター生成ホログラムの作成に必要な基本手順を説明します。

進化し続ける現代テクノロジーの状況において、精度と精度はさまざまな業界で最も重要になってきています。ここでマシン ビジョン キャリブレーション ボード (MVCB) が介入し、カメラ、ビデオ カメラ、レーザー距離計、レーダー、その他のビジョンベースの機器が最適なレベルで動作することを保証する上で重要な役割を果たします。