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精密測定と機器の分野では、光学ガラス製ライン定規は、精度と信頼性の限界を押し上げる画期的なツールとして登場しました。この革新的なデバイスは、光学ガラスの比類のない透明性と寸法安定性を利用して、直線性、再現性、耐久性の新しい基準を設定する定規を作成します。

光学イメージング システムの分野では、機器の分解能を正確に評価することが最も重要です。このニーズを満たすために、アメリカ空軍 (USAF) は 1951 年に MIL-STD-150A 規格に基づいて先駆的なツールである 1951 USAF Resolution Test Chart を考案しました。この顕微鏡的な光学解像度テスト装置は、それ以来、さまざまなイメージング システムの鮮明さと細部を捉える能力を評価するための普遍的なベンチマークになりました。

精密光学計測の分野では、コンピュータ生成ホログラム (CGH) が、複雑な光学面をテストおよび測定するための強力なツールとして登場しました。中でも、CGH シリンダー ヌルは、円筒面を正確に評価できる機能として大きな注目を集めています。この記事では、CGH シリンダー ヌルの原理、設計、応用について説明し、光学テスト機能の進歩における CGH シリンダー ヌルの役割を強調します。

コンピュータ生成ホログラム (CGH) は、特に非球面の測定において、光学テストの分野に革命をもたらしました。さまざまな CGH 技術の中でも、CGH ヌルコレクタは、高い精度と信頼性を確保する上で重要な役割を果たします。この記事では、CGH ヌル補正器の原理、設計上の考慮事項、およびアプリケーションについて詳しく説明し、精密光学テストにおける CGH ヌル補正器の重要性を強調します。

フォトマスクは単にマスクとも呼ばれ、集積回路 (IC) または「チップ」の製造に不可欠なツールです。規定のパターンで光を透過できる透明領域を備えたこれらの不透明プレートは、半導体製造の重要なステップの 1 つであるフォトリソグラフィー プロセスで重要な役割を果たします。この記事では、IC の製造においてフォトマスクがどのように使用されるかを見ていきます。

半導体製造の世界では、フォトマスクとレチクルは集積回路 (IC) の製造において重要な役割を果たします。これらの用語はしばしば同じ意味で使用されますが、実際には特定の機能を持つ別個のコンポーネントを指します。フォトマスクとレチクルの違いを理解することは、マイクロエレクトロニクス産業に携わるすべての人にとって不可欠です。